第四百六十二章 EUV

类别:其他 作者:江湖说梦人字数:2368更新时间:22/07/30 20:20:00
9月初,孟谦又去了一趟霓虹国,跟索尼签署了一份秘密文件,达成了战术同盟协议,两家公司将携手一起先干三星,当大家出现利益冲突的时候,一切以先干三星为主,之后索尼跟大风集团再竞争。

虽然此时的三星其实已经很难倒塌了,毕竟有高丽国撑着,但能利用各种方法压一压三星的发展也是好的,因为孟谦最在意的并不是三星有多强大,而是未来自己跟米国全面对抗的时候,三星这个家伙很可能会像当初捅霓虹国一样来捅华夏。

这一世,至少,绝对不能让三星在华夏影响太深。

这次来霓虹国,除了跟索尼谈战术合作的事情,孟谦还有一件很重要的事情要做,这个事情跟光刻机有关。

米国这边由英特尔牵头开始搞大规模euv光刻机研究已经有一段时间,时不时的冒出一些消息来让人觉得下一代光刻机是米国的...

不过在下一代光刻机的发展上孟谦确实也要多上点心了,最近沪上微电子那边给孟谦传来了很多坏消息,好多技术都搞不定。

所以,孟谦需要加快一些事情的发展。

这里就不得不稍微提一点关于euv的历史,孟谦以前看过一篇文章说:euv光刻技术在1999年被国际半导体技术发展路线图确定为下一代光刻首选技术,这就意味着,谁如果不参与到euv光刻技术研发,谁就将在下一代芯片竞赛中自动弃权。

为了确定这个事情,孟谦好不容易找到了1999年的国际半导体技术发展路线图原文,压根没有这句话,连类似的话也没有...

相反,按照当时的记载,1999年那会儿关于下一代光刻技术的猜想有四个,分别是157nm f2激光,电子束投射(epl),离子投射(ipl)以及euv和x光,因为euv属于软x光,所以和x光的研究算在一个领域。

当时研究全球研究euv的企业和机构确实超过200家,但研究157nm f2激光的企业和机构超过300家...

而且绝大部分企业和机构都是多个方向一起研发,尤其是ibm,四个方向一起研发。

当时搞157nm f2激光搞得最好的就是svg跟尼康,而当时搞euv搞的最好,也是投入最大的企业,正是英特尔,这也是为什么最近英特尔跳出来高喊要靠euv打造下一代光刻机。

在这个年代,英特尔率领的联盟就是euv第一梯队,而第二梯队是哪呢,从投入来说,第二梯队看似是欧洲,但从成果来说,第二梯队肯定是霓虹国,因为霓虹国很早就开始研究euv了,只是中间略有断层,断层的几年霓虹国重点研发在x光上,但基础还在,后面捡起来后发展的也很快,而在霓虹对euv研究最深的,也是尼康。

所以尼康在后世自嘲道,自己在20年前就掌握了euv关键技术,可惜的是,那个时候的基础还不足以撑起euv光刻机的发展。

这话其实说的也没错,人家asml在没有竞争对手的情况下搞euv光刻机搞了十年,尼康在这个年代搞euv光刻机能搞起来才见鬼了。

这就是孟谦为什么一定要尼康死的原因,孟谦要尼康这家公司!

所以在跟索尼达成战术联盟后,孟谦马上提出了一个需求,那就是在相机领域的进一步合作。尼康最近想要靠相机翻身的事情大家都知道了,而且曾经的尼康确实靠相机撑过了这几年。

所以孟谦绝对不能给尼康机会,喊上了索尼跟佳能进一步加深相机的合作研发,为此孟谦主动承担了大量研发费用,上来就先砸了10个亿软妹币,索尼跟佳能加起来也就跟了5个亿,但研发成果大家共享。

其实大风集团本身依靠军方技术的下放正快速提升着自己在工艺,镜头等领域的水平,这次还要这么拉上索尼跟佳能,确实就是因为想最大程度的打压尼康。

另外,除了打压尼康,大风集团现在独自对抗英特尔发起的联盟显然有些吃力,所以孟谦也需要一个联盟。

这次来霓虹国,孟谦带着关于euv光刻机的部分研究资料,过来拉联盟来了。

至于目标,自然是霓虹国在euv领域的领头企业,包括三菱,霓虹国电气股份有限公司,霓虹国电报电话公司,东芝等,而作为现在全球三大浸没式光刻机生产厂家的佳能,虽然在euv领域没那么厉害,但肯定也入局了,而且是最积极的那个,帮着孟谦“忽悠”自家企业。

毕竟佳能好不容易跻身全球光刻机第一梯队了,不想被挤下来了啊。

而为了不被挤下来,现在佳能只能跟着大风集团统一战线,如果这个时候跟大风集团搞分裂,那就等着被米国弄死吧。

有大风集团带来的资料加上佳能拼了老命的牵线搭桥,孟谦最终成功成立了华霓euv研发同盟,除了霓虹国这边十几家企业和机构,华夏这边同样有大风集团,沪上微电子,清华,长光所,45所等十多家企业和机构。

消息一出来,尼康是第一个坐不住的,第一时间跑去霓虹国半导体协会投诉,你们搞euv居然不带上我尼康?你们是不是脑子有问题?

然而,根本没人搭理尼康,这联盟是人家大风集团跟佳能牵头的,就是不想带你怎么了...

而在联盟消息出来的时候,米国那边自然也做出了反应,英特尔现在也没办法阻止两国的合作,但是英特尔高调的跳出来表示他们在euv领域取得了巨大的突破,还出了一份可以公开的论文,上面有写到euv光刻机的三大难题,其中最大的问题就是光源。

把光源的研究写的非常非常难,虽然说的也是实话,euv穿透物体时散射吸收都非常厉害,这使得光刻机需要非常非常强的光源,这个难度是巨大的。连空气都能吸收euv,所以机器内部还得做成真空的。

而且由于光刻精度是几纳米,euv对光的集中度要求极高,相当于拿个手电照到月球光斑不超过一枚硬币。反射要求镜子长30,这相当于是燕京到沪上做根铁轨起伏不超过1毫米。

英特尔这些公开论文就是要让世人明白euv光刻机有多难,然后说英特尔取得了重大突破,至于什么突破,含糊其辞,用一句机密就解释了。

结果就在英特尔发公告的这一天,华夏突然宣布,将kbff晶体列为战略资源,不再对外出口...

孟谦看着新闻,突然有些莫名的兴奋,“看看谁先搞出euv光刻机吧...”

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